Wie lange wurde das Polierprozess des chemischen mechanischen Planarisation (CMP) verwendet?

von: foc faq

Politur: Fragen Sie Foc Ask Foc

Veröffentlicht: 19. Februar 2019

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Wie lange wurde das Polierprozess des chemischen mechanischen Planarisations (CMP) verwendet?

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Wir beobachten seit den 1980er Jahren die Entwicklung der chemischen mechanischen Planarisation (CMP), als dieser Polierprozess erstmals in der Halbleiterindustrie verwendet wurde. Natürlich wurde mein Interesse an CMP persönlicher, als dieser Prozess Anfang der neunziger Jahre in die Glasfaserindustrie eingeführt wurde. Seitdem ist CMP für die Herstellung von Glasfaserkabelbaugruppen mit MT -Ferrulen integraler Bestandteil geworden. Tatsächlich sehen wir weiterhin Entwicklungen des CMP -Prozesses.

Lesen Sie den vollständigen Blog -Artikel hier: Verwenden der chemischen mechanischen Planarisation (CMP), um MT -Ferrulen zu polieren und wiederholbare, vorhersehbare Ergebnisse zu erhalten

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Poliertipps und Best Practices für einzelne Faseranschlüsse

Beantwortet von Askfoc Technical Team: 20. Februar 2019

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